1.太陽能概況
太陽能是各種可再生能源中zui重要的基本能源,生物質(zhì)能、風能、海洋能、水能等都來自太陽能,廣義地說,太陽能包含以上各種可再生能源。太陽能作為可再生能源的一種,則是指太陽能的直接轉(zhuǎn)化和利用。通過轉(zhuǎn)換裝置把太陽輻射能轉(zhuǎn)換成熱能利用的屬于太陽能熱利用技術(shù),再利用熱能進行發(fā)電的稱為太陽能熱發(fā)電,也屬于這一技術(shù)領(lǐng)域;通過轉(zhuǎn)換裝置把太陽輻射能轉(zhuǎn)換成電能利用的屬于太陽能光發(fā)電技術(shù),光電轉(zhuǎn)換裝置通常是利用半導(dǎo)體器件的光伏效應(yīng)原理進行光電轉(zhuǎn)換的,因此又稱太陽能光伏技術(shù)。
二十世紀50年代,太陽能利用領(lǐng)域出現(xiàn)了兩項重大技術(shù)突破:一是1954年美國貝爾實驗室研制出6%的實用型單晶硅電池,二是1955年以色列Tabor提出選擇性吸收表面概念和理論并研制成功選擇性太陽吸收涂層。這兩項技術(shù)突破為太陽能利用進入現(xiàn)代發(fā)展時期奠定了技術(shù)基礎(chǔ)。
70年代以來,鑒于常規(guī)能源供給的有限性和環(huán)保壓力的增加,世界上許多國家掀起了開發(fā)利用太陽能和可再生能源的熱潮。1973年,美國制定了政府級的陽光發(fā)電計劃,1980年又正式將光伏發(fā)電列入公共電力規(guī)劃,累計投入達8億多美元。1992年,美國政府頒布了新的光伏發(fā)電計劃,制定了宏偉的發(fā)展目標。日本在70年代制定了“陽光計劃”,1993年將“月光計劃”(節(jié)能計劃)、“環(huán)境計劃”、“陽光計劃”合并成“新陽光計劃”。德國等歐共體國家及一些發(fā)展中國家也紛紛制定了相應(yīng)的發(fā)展計劃。90年代以來聯(lián)合國召開了一系列有各國領(lǐng)導(dǎo)人參加的高峰會議,討論和制定世界太陽能戰(zhàn)略規(guī)劃、太陽能公約,設(shè)立太陽能基金等,推動太陽能和可再生能源的開發(fā)利用。開發(fā)利用太陽能和可再生能源成為社會的一大主題和共同行動,成為各國制定可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的重要內(nèi)容。
自“六五”以來我國政府一直把研究開發(fā)太陽能和可再生能源技術(shù)列入國家科技攻關(guān)計劃,大大推動了我國太陽能和可再生能源技術(shù)和產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
二十多年來,太陽能利用技術(shù)在研究開發(fā)、商業(yè)化生產(chǎn)、市場開拓方面都獲得了長足發(fā)展,成為世界快速、穩(wěn)定發(fā)展的新興產(chǎn)業(yè)之一。返回11
2.光伏效應(yīng)
光生伏應(yīng)簡稱為光伏效應(yīng),指光照使不均勻半導(dǎo)體或半導(dǎo)體與金屬組合的不同部位之間產(chǎn)生電位差的現(xiàn)象。
產(chǎn)生這種電位差的機理有好幾種,主要的一種是由于阻擋層的存在。以下以P-N結(jié)為例說明。
熱平衡態(tài)下的P-N結(jié)
P-N結(jié)的形成:
同質(zhì)結(jié)可用一塊半導(dǎo)體經(jīng)摻雜形成P區(qū)和N區(qū)。由于雜質(zhì)的激活能量ΔE很小,在室溫下雜質(zhì)差不多都電離成受主離子NA-和施主離子ND+。在PN區(qū)交界面處因存在載流子的濃度差,故彼此要向?qū)Ψ綌U散。設(shè)想在結(jié)形成的一瞬間,在N區(qū)的電子為多子,在P區(qū)的電子為少子,使電子由N區(qū)流入P區(qū),電子與空穴相遇又要發(fā)生復(fù)合,這樣在原來是N區(qū)的結(jié)面附近電子變得很少,剩下未經(jīng)中和的施主離子ND+形成正的空間電荷。同樣,空穴由P區(qū)擴散到N區(qū)后,由不能運動的受主離子NA-形成負的空間電荷。在P區(qū)與N區(qū)界面兩側(cè)產(chǎn)生不能移動的離子區(qū)(也稱耗盡區(qū)、空間電荷區(qū)、阻擋層),于是出現(xiàn)空間電偶層,形成內(nèi)電場(稱內(nèi)建電場)此電場對兩區(qū)多子的擴散有抵制作用,而對少子的漂移有幫助作用,直到擴散流等于漂移流時達到平衡,在界面兩側(cè)建立起穩(wěn)定的內(nèi)建電場。
P-N結(jié)能帶與接觸電勢差:
在熱平衡條件下,結(jié)區(qū)有統(tǒng)一的EF;在遠離結(jié)區(qū)的部位,EC、EF、Eν之間的關(guān)系與結(jié)形成前狀態(tài)相同。
從能帶圖看,N型、P型半導(dǎo)體單獨存在時,EFN與EFP有一定差值。當N型與P型兩者緊密接觸時,電子要從費米能級高的一方向費米能級低的一方流動,空穴流動的方向相反。同時產(chǎn)生內(nèi)建電場,內(nèi)建電場方向為從N區(qū)指向P區(qū)。在內(nèi)建電場作用下,EFN將連同整個N區(qū)能帶一起下移,EFP將連同整個P區(qū)能帶一起上移,直至將費米能級拉平為EFN=EFP,載流子停止流動為止。在結(jié)區(qū)這時導(dǎo)帶與價帶則發(fā)生相應(yīng)的彎曲,形成勢壘。勢壘高度等于N型、P型半導(dǎo)體單獨存在時費米能級之差:
qUD=EFN-EFP
得
UD=(EFN-EFP)/q
q:電子電量
UD:接觸電勢差或內(nèi)建電勢
對于在耗盡區(qū)以外的狀態(tài):
UD=(KT/q)ln(NAND/ni2)
NA、ND、ni:受主、施主、本征載流子濃度。
可見UD與摻雜濃度有關(guān)。在一定溫度下,P-N結(jié)兩邊摻雜濃度越高,UD越大。
禁帶寬的材料,ni較小,故UD也大。
光照下的P-N結(jié)
P-N結(jié)光電效應(yīng):
當P-N結(jié)受光照時,樣品對光子的本征吸收和非本征吸收都將產(chǎn)生光生載流子。但能引起光伏效應(yīng)的只能是本征吸收所激發(fā)的少數(shù)載流子。因P區(qū)產(chǎn)生的光生空穴,N區(qū)產(chǎn)生的光生電子屬多子,都被勢壘阻擋而不能過結(jié)。只有P區(qū)的光生電子和N區(qū)的光生空穴和結(jié)區(qū)的電子空穴對(少子)擴散到結(jié)電場附近時能在內(nèi)建電場作用下漂移過結(jié)。光生電子被拉向N區(qū),光生空穴被拉向P區(qū),即電子空穴對被內(nèi)建電場分離。這導(dǎo)致在N區(qū)邊界附近有光生電子積累,在P區(qū)邊界附近有光生空穴積累。它們產(chǎn)生一個與熱平衡P-N結(jié)的內(nèi)建電場方向相反的光生電場,其方向由P區(qū)指向N區(qū)。此電場使勢壘降低,其減小量即光生電勢差,P端正,N端負。于是有結(jié)電流由P區(qū)流向N區(qū),其方向與光電流相反。
實際上,并非所產(chǎn)生的全部光生載流子都對光生電流有貢獻。設(shè)N區(qū)中空穴在壽命τp的時間內(nèi)擴散距離為Lp,P區(qū)中電子在壽命τn的時間內(nèi)擴散距離為Ln。Ln+Lp=L遠大于P-N結(jié)本身的寬度。故可以認為在結(jié)附近平均擴散距離L內(nèi)所產(chǎn)生的光生載流子都對光電流有貢獻。而產(chǎn)生的位置距離結(jié)區(qū)超過L的電子空穴對,在擴散過程中將全部復(fù)合掉,對P-N結(jié)光電效應(yīng)無貢獻。
光照下的P-N結(jié)電流方程:
與熱平衡時比較,有光照時,P-N結(jié)內(nèi)將產(chǎn)生一個附加電流(光電流)Ip,其方向與P-N結(jié)反向飽和電流I0相同,一般Ip≥I0。此時
I=I0eqU/KT - (I0+Ip)
令I(lǐng)p=SE,則
I=I0eqU/KT - (I0+SE)
開路電壓Uoc:
光照下的P-N結(jié)外電路開路時P端對N端的電壓,即上述電流方程中I=0時的U值:
0=I0eqU/KT - (I0+SE)
Uoc=(KT/q)ln(SE+I0)/I0≈(KT/q)ln(SE/I0)
短路電流Isc:
光照下的P-N結(jié),外電路短路時,從P端流出,經(jīng)過外電路,從N端流入的電流稱為短路電流Isc。即上述電流方程中U=0時的I值,得Isc=SE。
Uoc與Isc是光照下P-N結(jié)的兩個重要參數(shù),在一定溫度下,Uoc與光照度E成對數(shù)關(guān)系,但zui大值不超過接觸電勢差UD。弱光照下,Isc與E有線性關(guān)系。
a)無光照時熱平衡態(tài),NP型半導(dǎo)體有統(tǒng)一的費米能級,勢壘高度為qUD=EFN-EFP。
b)穩(wěn)定光照下P-N結(jié)外電路開路,由于光生載流子積累而出現(xiàn)光生電壓Uoc不再有統(tǒng)一費米能級,勢壘高度為q(UD-Uoc)。
c)穩(wěn)定光照下P-N結(jié)外電路短路,P-N結(jié)兩端無光生電壓,勢壘高度為qUD,光生電子空穴對被內(nèi)建電場分離后流入外電路形成短路電流。
d)有光照有負載,一部分光電流在負載上建立起電壓Uf,另一部分光電流被P-N結(jié)因正向偏壓引起的正向電流抵消,勢壘高度為q(UD-Uf)。
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